半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水系统的使用要求更高。

　　在半导体制ㄨ作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需要进行化学处理，而化№学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件性能下降、影响产品性能。因此，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技术。

　　超纯水既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水︾中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。电阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm极限值(25℃)。

　　超纯水处理是一般工艺很难达到的程度，莱特莱德采用预处理、反渗透技术、靶向离子交换系统以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子△交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。

　　半导体业由于技术发展迅速、市场变化大，其生产能力←具有波动性。所以，要求与之配套的半导体纯水系统要有一定的可调节性、留有合理的余量，对超【纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水系统投入运行后，能够生产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水，为半导体用︼水提供用水保障。